SILICA HEAT REFLECTION PLATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

The purpose of the present disclosure is to provide: a silica heat reflection plate which withstands use at temperatures up to 1,000°C, and which, in comparison to conventional silica heat reflection plates, maintains better adhesion between a silica plate and a reflector, is better at suppressing d...

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Hauptverfasser: MARUKO, Tomohiro, TAKAISHI, Yusuke, ISHIGURO, Yoshihiro
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:The purpose of the present disclosure is to provide: a silica heat reflection plate which withstands use at temperatures up to 1,000°C, and which, in comparison to conventional silica heat reflection plates, maintains better adhesion between a silica plate and a reflector, is better at suppressing deterioration of a metal component of the reflector, has better heat reflection characteristics, has better bondability between silica plates, and has a longer service life; and a method for manufacturing the same. With respect to a silica heat reflection plate according to the present disclosure, a reflector 3 reflects infrared rays L1 that are incident thereon from a first silica plate side, or reflects infrared rays L2 that are incident thereon from a second silica plate side. The first silica plate 1 and the second silica plate 2 have an OH group content of 1,000 ppm or less. The reflector 3 is a thin film. A surface layer including at least a reflection surface of the reflector is formed of one element that is selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, and Mo, or is formed of an alloy that contains at least one element that is selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, and Mo, and that has a melting point of 1,200°C or more. Le but de la présente divulgation est de fournir : une plaque de réflexion de chaleur en silice qui résiste à l'utilisation à des températures allant jusqu'à 1 000 °C, et qui, par rapport aux plaques de réflexion de chaleur en silice classiques, préserve une meilleure adhérence entre une plaque de silice et un réflecteur, présente de meilleures performances en matière de suppression de la détérioration d'un composant métallique du réflecteur, présente de meilleures caractéristiques de réflexion de la chaleur, présente une meilleure capacité de liaison entre des plaques de silice, ainsi qu'une durée de vie plus longue ; et son procédé de fabrication. En ce qui concerne une plaque de réflexion de chaleur en silice selon la présente divulgation, un réflecteur 3 réfléchit les rayons infrarouges L1 qui sont incidents sur celui-ci à partir d'un premier côté de la plaque de silice, ou réfléchit les rayons infrarouges L2 qui sont incidents sur celui-ci à partir d'un second côté de la plaque de silice. La première plaque de silice 1 et la seconde plaque de silice 2 présentent une teneur en groupes OH inférieure ou égale à 1 000 ppm. Le réflecteur 3 est un film mince. Une couche de surface comprenant au moins une surf