MICROWAVE PRECLEAN APPARATUS AND PROCESSING METHOD FOR IMPURITY REMOVAL

Embodiments of the present disclosure generally relate to a low temperature non-plasma containing preclean process to selectively remove contaminants from the surface of a substrate, such as halogen containing and/or metal oxide containing contaminants. The non-plasma containing precleaning process is performed at a low temperature by use of a microwave source that is configured to provide microwave energy to the processing gases disposed within a processing chamber. The non-plasma low temperature preclean process is effective in reducing halogen containing residues, such as fluorine and chlorine containing residues formed on a surface of a substrate. Des modes de réalisation de la présente divulgation concernent de manière générale un procédé de pré-nettoyage ne contenant pas de plasma à basse température pour éliminer sélectivement des contaminants de la surface d'un substrat, tel que des contaminants contenant un halogène et/ou un oxyde métallique. Le procédé de pré-nettoyage ne contenant pas de plasma est effectué à basse température à l'aide d'une source de micro-ondes qui est configurée pour fournir de l'énergie micro-ondes aux gaz de traitement disposés à l'intérieur d'une chambre de traitement. Le procédé de pré-nettoyage sans plasma à basse température est efficace dans la réduction de résidus contenant de l'halogène, tels que des résidus contenant du fluor et du chlore formés sur une surface d'un substrat.