SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS

The present invention relates to a substrate treatment apparatus and, to a substrate treatment apparatus which prevents solid powder formed in an exhaust line from moving to a pressure pump. The substrate treatment apparatus according to an embodiment of the present invention comprises: a processing chamber providing a processing treatment space for processing a substrate; an exhaust line which provides process by-products existing in the processing chamber with an exhaust passage; a pressure pump which presses the internal space of the exhaust line so as to transport the process by-products; and a filtering portion which blocks the solid powder generated in the exhaust passage from moving to the pressure pump. La présente invention se rapporte à un appareil de traitement de substrat et à un appareil de traitement de substrat qui empêche une poudre solide formée dans une ligne d'évacuation de se déplacer vers une pompe à pression. L'appareil de traitement de substrat selon un mode de réalisation de la présente invention comprend : une chambre de transformation fournissant un espace de traitement de transformation pour transformer un substrat ; une ligne d'évacuation qui fournit à des sous-produits de transformation existant dans la chambre de transformation un passage d'évacuation ; une pompe à pression qui presse l'espace interne de la ligne d'évacuation de façon à transporter les sous-produits de transformation ; et une partie de filtration qui empêche la poudre solide générée dans le passage d'évacuation de se déplacer vers la pompe à pression. 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 배기 라인에서 형성된 고형 분말이 압력 펌프로 이동하는 것을 방지하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판의 공정을 위한 공정 처리 공간을 제공하는 공정 챔버와, 상기 공정 챔버에 존재하는 공정 부산물의 배기 경로를 제공하는 배기 라인과, 상기 배기 라인의 내부 공간을 가압하여 상기 공정 부산물이 이송되도록 하는 압력 펌프, 및 상기 배기 경로에서 생성되는 고형 분말이 상기 압력 펌프로 이동하는 것을 차단하는 필터링부를 포함한다.