CIRCULATING AIR PROCESS SYSTEM

Vorgeschlagen wird ein Prozess-System zur Bearbeitung eines Substrats, aufweisend mindestens eine Bestrahlungsvorrichtung zur Bestrahlung eines Substrates, wobei das Substrat an einem Eingangsbereich der Bestrahlungsvorrichtung zugeführt und in einer vorgegebenen Prozessrichtung geführt und mit Strahlungsenergie und Prozessluft beaufschlagt wird, und wobei das Substrat an einem Ausgangsbereich die Bestrahlungsvorrichtung verlässt, sowie einen in Prozessrichtung an den Ausgangsbereich der Bestrahlungsvorrichtung anschließend angeordneten Umluftdüsentrockner, welchem das Substrat nach Verlassen der Bestrahlungsvorrichtung zugeführt wird, und wobei das Substrat diesen bis zu einem Ausgabebereich durchläuft, wobei der Umluftdüsentrockner dazu eingerichtet ist, das Substrat zu prozessieren, und wobei der Umluftdüsentrockner aufweist: mindestens ein erstes und ein zweites Umluftmodul, aufweisend jeweils eine Absaugeinheit und eine Zuluftdüse, und ein mit den mindestens zwei Umluftmodulen in Wirkverbindung stehendes Luftzirkulationselement das angeordnet und dazu eingerichtet ist, durch die Absaugeinheit zumindest des ersten Umluftmoduls aufgenommene und ihm zugeführte Luft umzuwälzen, sowie mindestens ein Heizelement, das angeordnet und dazu eingerichtet ist, die umgewälzte Luft zu temperieren und als Zuluft durch die Zuluftdüsen der Umluftmodule in Richtung Substrat auszugeben, wobei die in Prozessrichtung letzte Absaugeinheit nicht mit dem Luftzirkulationselement in Wirkverbindung steht und dazu eingerichtet ist, einen Teil der auf das Substrat ausgegebenen Zuluft nach außerhalb der Umluftanlage abzutransportieren. A process system for processing a substrate is proposed, comprising at least one irradiation device for irradiating a substrate, wherein the substrate is fed in at an entry region of the irradiation device and is guided in a predefined process direction and is loaded with radiation energy and process air, and wherein the substrate leaves the irradiation device at an exit region, and a circulating air nozzle dryer which is arranged so as to adjoin the exit region of the irradiation device in the process direction and to which the substrate is fed after leaving the irradiation device, and wherein the substrate runs through said dryer as far as a discharge region, wherein the circulating air nozzle dryer is configured to process the substrate, and wherein the circulating air nozzle dryer comprises: at least a first and a second circulating air module,