RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND ONIUM SALT COMPOUND

Provided are: a radiation-sensitive composition which is capable of exhibiting sufficient levels of sensitivity, LWR performance, CDU performance and MEEF performance during formation of a resist pattern, and has satisfactory storage stability; a pattern formation method; and an onium salt compound. The radiation-sensitive composition comprises: an onium salt compound represented by formula (1); a polymer containing a structural unit having an acid-dissociable group; and a solvent. (In formula (1), A represents a monovalent organic group having 1 to 40 carbon atoms. R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, a mercapto group, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and substituted by at least one of a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, a mercapto group, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. When a plurality of R1's and a plurality of R2's are present, the plurality of R1's and the plurality of R2's are respectively identical or different from each other. At least one of R1 and R2 is a cyano group or a nitro group. m1 represents an integer of 1 to 8. L represents *-COO-, *-OCO-, *-CO- or *-OCOO-, and * represents an A-side bonding hand. However, when m1 is 1, L is *-COO-, *-CO- or *-OCOO-. Z+ represents a monovalent radiation-sensitive onium cation.) L'invention concerne : une composition sensible au rayonnement qui est capable de présenter des niveaux suffisants de sensibilité, de performances LWR, de performances CDU et de performances MEEF pendant la formation d'un motif de réserve, et qui présente une stabilité au stockage satisfaisante ; un procédé de formation de motif ; et un composé de sel d'onium. La composition sensible au rayonnement contient un composé de sel d'onium représenté par la formule (1), un polymère contenant un motif constitutif ayant un groupe pouvant être dissocié par un acide, et un solvant. (Dans la formule (1), A représente un groupe organique monovalent ayant de 1 à 40 atomes de carbone. R1 et R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe cyano, un groupe nitro, un groupe hydroxy, un groupe alcoxy, un groupe alkylthio, un groupe amino, un groupe mercapto, un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, ou un groupe hy