SPATIAL ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS, HEAD, AND INSERT FOR HEAD

The present invention relates to an atomic layer deposition (SALD) head and an apparatus incorporating multiple SALD heads for providing gas to a flexible substrate. The SALD head includes a permeable material disposed between the input and output faces to ensure even gas distribution across the head's width. The permeable material can be a particulate, lattice structure, mesh, or porous media, with options including stainless steel balls, glass beads, fiberglass, and more. The permeable material may also exhibit a density gradient and be contained in a removable insert with segmented materials that control gas flow. This design enhances deposition uniformity and process control in atomic layer deposition applications on flexible substrates. La présente invention concerne une tête de dépôt par couches atomiques (SALD) et un appareil incorporant de multiples têtes de SALD pour fournir un gaz à un substrat flexible. La tête de SALD comprend un matériau perméable disposé entre les faces d'entrée et de sortie pour garantir une distribution uniforme du gaz sur toute la largeur de la tête. Le matériau perméable peut être un matériau particulaire, une structure en treillis, des mailles ou un milieu poreux, avec des options dont des billes d'acier inoxydable, des perles de verre, des fibres de verre, et plus. Le matériau perméable peut également présenter un gradient de densité et être contenu dans un insert amovible avec des matériaux segmentés qui régulent l'écoulement du gaz. Cette conception améliore l'uniformité de dépôt et la régulation du procédé dans des applications de dépôt par couches atomiques sur des substrats flexibles.