METHOD FOR PRODUCING PLANAR MICROPARTICLES AND PLANAR MICROPARTICLES

The invention relates to a method for producing elongate planar microparticles (1) that increases the manufacturing yield of said microparticles (1) and comprises the steps of: preparing a structuring layer of a microparticle (1) starting material on a substrate (2); defining the shape of the microparticles (1) in the structuring layer by using a photolithography technique and an engraving technique that defines the thickness of the microparticles (1), where the shape of the microparticles (1) is such that it comprises an elongate central body (3) with longer sides and shorter sides, with at least two side wings (4) extending from the longer sides; and forming one or more feet (5) with a circular section in an upper portion of the substrate (2) that is under the structuring layer. Procedimiento de fabricación de micropartículas (1) planares alargadas, que logra el aumento del rendimiento de la fabricación de estas micropartículas (1), y comprende las etapas de: preparación de una capa de estructuración de un material de partida de micropartículas (1) sobre un sustrato (2); definición del contorno de las micropartículas (1) en la capa de estructuración mediante una técnica de fotolitografía y una técnica de grabado con la que se define el espesor de las micropartículas (1), siendo el contorno de las micropartículas (1) tal que comprende un cuerpo central (3) alargado, con unos lados mayores y unos lados menores, partiendo de los lados mayores al menos dos alas laterales (4); y formación de uno o más pies (5) de sección circular en una parte superior del sustrato (2) que se encuentra bajo la capa de estructuración. L'invention concerne un procédé de fabrication de microparticules (1) planaires allongées, qui permet d'augmenter le rendement de fabrication de ces microparticules (1) et comprend les étapes suivantes : préparation d'une couche de structuration constituée d'un matériau de charge de microparticules (1) sur un substrat (2) ; définition du contour des microparticules (1) dans la couche de structuration par une technique de photolithographie et une technique de gravure permettant de déterminer l'épaisseur des microparticules (1), le contour des microparticules (1) étant tel qu'il comprend un corps central (3) allongé, avec des grands côtés et des petits côtés, au moins deux ailettes latérales (4) partant des deux grands côtés ; et formation d'un ou plusieurs pieds (5) de section circulaire dans une partie supérieure du substrat (2) qui se trouve sous