PROCESSING CHAMBER WITH GAS RECYCLING

Semiconductor manufacturing processing chambers with recycling capability and methods of recycling a chemical precursor are described. The processing chamber comprises a chamber body with a substrate support. The substrate support is spaced form the chamber lid to create a process region. A gas inlet provides a flow of gas to the process region and a recirculation plenum is in fluid communication with the process region. At least one fast-acting valve is connected to the recirculation plenum with a recirculation inlet line. A recirculation housing is in fluid communication with the recirculation inlet line and a recirculation outlet line. A recirculation piston valve allows a gas within the process chamber to be recycled into the original precursor container or into a different container for reuse. Sont décrits des chambres de traitement de fabrication de semi-conducteurs présentant une capacité de recyclage et des procédés de recyclage d'un précurseur chimique. La chambre de traitement comprend un corps de chambre pourvu d'un support de substrat. Le support de substrat est espacé du couvercle de chambre pour créer une région de traitement. Une entrée de gaz fournit un flux de gaz à la région de traitement et un plénum de recirculation est en communication fluidique avec la région de traitement. Au moins une soupape à action rapide est reliée au plénum de recirculation par une ligne d'entrée de recirculation. Un boîtier de recirculation est en communication fluidique avec la ligne d'entrée de recirculation et une ligne de sortie de recirculation. Une soupape à piston de recirculation permet à un gaz à l'intérieur de la chambre de traitement d'être recyclé dans le récipient de précurseur d'origine ou dans un récipient différent pour une réutilisation.