SYSTEM, METHOD, AND APPARATUS FOR FLOW TUNING

A multi-station semiconductor processing apparatus includes processing stations ("stations") and a fluid delivery system fluidically connected to the stations. The fluid delivery system includes first to fourth passageways and a flow adjuster. The first passageway receives an input supply of fluid. The second passageway diverts a first portion of the input supply of fluid to the third passageway fluidically connected to a first station of the stations and a second portion of the input supply of fluid to the fourth passageway fluidically connected to a second station of the stations. The flow adjuster includes a moveable structure that selectively and variably obstructs a portion of the third passageway to allow flow conductance along the third passageway to the first station to match flow conductance along the fourth passageway to the second station within a determined margin of error. The flow adjuster is incapable of fully obstructing the third passageway. L'invention concerne un appareil de traitement de semi-conducteurs à stations multiples comprenant des stations de traitement ("stations") et un système de distribution de fluide en communication fluidique avec les stations. Le système de distribution de fluide comprend des premier à quatrième passages et un dispositif de réglage de flux. Le premier passage reçoit une alimentation d'entrée de fluide. Le deuxième passage dévie une première partie de l'alimentation d'entrée de fluide vers le troisième passage en communication fluidique avec une première station des stations et une seconde partie de l'alimentation d'entrée de fluide vers le quatrième passage en communication fluidique avec une seconde station des stations. Le dispositif de réglage de flux comprend une structure mobile qui obstrue de manière sélective et variable une partie du troisième passage pour permettre une conductance de flux le long du troisième passage vers la première station pour faire correspondre la conductance de flux le long du quatrième passage à la seconde station dans une marge d'erreur déterminée. Le dispositif de réglage de flux est incapable d'obstruer complètement le troisième passage.