HIGH-PRESSURE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

The present invention provides a high-pressure substrate processing apparatus comprising: an inner chamber configured to accommodate a substrate to be processed; an outer chamber having an outer housing for accommodating the inner chamber and an outer door formed to be movable between a position in a closed state for closing the outer housing and a position in an open state for opening the outer housing; and a fastening module which, in order to ensure that a protective gas within the outer chamber is configured in relation to a first pressure higher than atmospheric pressure and is maintained at a second pressure higher than atmospheric pressure when a process gas for processing the substrate to be processed in the inner chamber has the first pressure, fastens the outer housing and the outer door in the closed state and is separately configured from the outer door or the outer housing. La présente invention concerne un appareil de traitement de substrat haute-pression comprenant : une chambre interne configurée pour recevoir un substrat à traiter ; une chambre externe présentant un boîtier externe pour recevoir la chambre interne et une porte externe formée pour être mobile entre une position dans un état fermé pour fermer le boîtier externe et une position dans un état ouvert pour ouvrir le boîtier externe ; et un module de fixation qui, afin de garantir qu'un gaz protecteur à l'intérieur de la chambre externe est configuré par rapport à une première pression supérieure à la pression atmosphérique et est maintenu à une seconde pression supérieure à la pression atmosphérique lorsqu'un gaz de traitement pour traiter le substrat à traiter dans la chambre interne a la première pression, fixe le boîtier externe et la porte externe dans l'état fermé et est configuré séparément de la porte externe ou du boîtier externe. 본 발명은, 피처리 기판을 수용하도록 형성되는 내부 챔버; 상기 내부 챔버를 수용하는 외부 하우징과, 상기 외부 하우징을 폐쇄하는 닫힘 상태와 상기 외부 하우징을 개방하는 열림 상태 간에 이동하도록 형성되는 외부 도어를 구비하는 외부 챔버; 및 상기 내부 챔버 내에서 상기 피처리 기판의 처리를 위한 공정 가스가 대기압보다 높은 제1 압력을 갖는 경우에 상기 외부 챔버 내에서 보호 가스가 상기 제1 압력과 관련해 설정되며 대기압 보다 높은 제2 압력으로 유지되게 하기 위해서, 상기 닫힘 상태에서 상기 외부 하우징과 상기 외부 도어를 체결하며 상기 외부 도어 또는 상기 외부 하우징과 분리된 구성으로서 형성되는 체결 모듈을 포함하는, 고압 기판 처리 장치를 제공한다.