LITHOGRAPHIC APPARATUS WITH A FLUID HANDLING STRUCTURE

Disclosed herein is a lithographic apparatus comprising a fluid handling structure that is separated from a substrate and/or substrate support by a separation distance; a positioning device configured to move the substrate support and thereby the substrate; and a control system configured to control...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	OKLUCENTE, Beril, DUYMELINCK, Rob, BERENDSEN, Christianus, EUMMELEN, Erik, PARK, Sang-Myung, TAP, Mireille, SMEETS, Benjamin, GATTOBIGIO, Giovanni, HUIBERTS, Sjoerd, VAN GROTEL, Martinus, MIGCHELBRINK, Ferdy
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Disclosed herein is a lithographic apparatus comprising a fluid handling structure that is separated from a substrate and/or substrate support by a separation distance; a positioning device configured to move the substrate support and thereby the substrate; and a control system configured to control the positioning device so that the substrate support is moved along a route comprising one or more preparatory movements and one or more scanning movements; wherein: the control system is further configured to control the position of the fluid handling structure and/or substrate support so as to change the separation distance in dependence of whether a preparatory movement or a scanning movement is being performed; each preparatory movement is for moving the substrate to a position from which a new scanning movement may be started; and each scanning movement is for moving and/or positioning the substrate during one or more exposure processes. L'invention concerne un appareil lithographique comprenant une structure de manipulation de fluide qui est séparée d'un substrat et/ou d'un support de substrat par une distance de séparation ; un dispositif de positionnement conçu pour déplacer le support de substrat, et le substrat par le fait même ; et un système de commande conçu pour commander le dispositif de positionnement de telle sorte que le support de substrat est déplacé le long d'un trajet comprenant un ou plusieurs mouvements préparatoires et un ou plusieurs mouvements de balayage. Le système de commande est en outre conçu pour commander la position de la structure de manipulation de fluide et/ou du support de substrat de façon à modifier la distance de séparation en fonction de si un mouvement préparatoire ou un mouvement de balayage est en cours d'exécution ; chaque mouvement préparatoire sert à déplacer le substrat vers une position à partir de laquelle un nouveau mouvement de balayage peut être amorcé ; et chaque mouvement de balayage sert à déplacer et/ou à positionner le substrat pendant un ou plusieurs processus d'exposition.