LASER IRRADIATION DEVICE, LASER PROCESSING DEVICE, LASER PROCESSING METHOD, MASK INSTALLATION METHOD, LASER PROCESSING DEVICE INSTALLATION METHOD, AND MASK

The present invention is a laser irradiation device comprising a first optical functional unit having a laser light source and a second optical functional unit for installing a mask having a pattern corresponding to a laser irradiation region of ​​an object to be irradiated. The laser irradiation device irradiates a laser onto the object to be irradiated through the mask installed by the second optical functional unit. The mask includes an effective area having a pattern corresponding to the laser irradiation region of the object to be irradiated, is rectangular in shape with the length of the longest of the four sides forming the outer edge of the mask being 800 mm or longer, and is disposed such that a normal line to the plane on which the pattern is formed in the second optical functional unit is oriented approximately horizontally. Through the foregoing, provided is a laser irradiation device that has a low height, is capable of irradiating a laser with high accuracy due to suppressing the effect of curvature caused by the weight of the mask, and is capable of suppressing adhesion of dust to the mask surface, making it difficult for defects caused by dust to occur. La présente invention concerne un dispositif d'exposition au rayonnement laser comprenant une première unité fonctionnelle optique ayant une source de lumière laser et une seconde unité fonctionnelle optique pour installer un masque ayant un motif correspondant à une région d'exposition au rayonnement laser d'un objet à exposer au rayonnement. Le dispositif d'exposition au rayonnement laser expose l'objet à exposer au rayonnement à un rayonnement laser à travers le masque installé par la seconde unité fonctionnelle optique. Le masque comprend une zone efficace ayant un motif correspondant à la région d'exposition au rayonnement laser de l'objet à exposer au rayonnement, est de forme rectangulaire, la longueur du plus long des quatre côtés formant le bord externe du masque étant supérieure ou égale à 800 mm, et est disposé de telle sorte qu'une ligne perpendiculaire au plan sur lequel le motif est formé dans la seconde unité fonctionnelle optique est orientée approximativement horizontalement. Grâce à ce qui précède, la présente invention concerne un dispositif d'exposition au rayonnement laser qui présente une faible hauteur, est apte à exposer au rayonnement laser avec une précision élevée en raison de la suppression de l'effet de courbure provoquée par le poids du masque, et est apte à sup