LASER IRRADIATION DEVICE, LASER PROCESSING DEVICE, LASER PROCESSING METHOD, LASER EXPOSURE DEVICE, LASER EXPOSURE METHOD, MASK INSTALLATION METHOD, LASER PROCESSING DEVICE INSTALLATION METHOD, LASER EXPOSURE DEVICE INSTALLATION METHOD, MASK, AND LASER IRRADIATION SYSTEM

The present invention relates to a laser irradiation device that comprises: a first optical functional unit including a laser light source; and a second optical functional unit for installing a mask having a pattern corresponding to a laser irradiation region of an object to be irradiated, and that serves for irradiating the object to be irradiated with laser light through the mask installed in the second optical functional unit, wherein the mask includes an effective area having the pattern corresponding to the laser irradiation region of the object to be irradiated, has a rectangular shape with the shortest side of the four sides that are the outer edge of the mask being 1000 mm or more in length, and is arranged so that the normal line of the surface on which the pattern is formed in the second optical functional unit is oriented in a substantially horizontal direction. As a result, it is possible to provide a laser irradiation device in which the influence of deflection due to the weight of the mask can be suppressed, laser irradiation can be performed with high accuracy, and adhesion of dust to the mask surface can be suppressed, so that defects due to dust are less likely to occur and the height thereof is low. La présente invention concerne un dispositif d'exposition au rayonnement laser qui comprend : une première unité fonctionnelle optique comprenant une source de lumière laser ; et une seconde unité fonctionnelle optique pour installer un masque ayant un motif correspondant à une région d'exposition au rayonnement laser d'un objet à exposer au rayonnement laser, et qui sert à exposer l'objet à exposer au rayonnement laser au rayonnement d'une lumière laser à travers le masque installé dans la seconde unité fonctionnelle optique, le masque comprenant une zone efficace ayant le motif correspondant à la région d'exposition au rayonnement laser de l'objet à exposer au rayonnement laser, présentant une forme rectangulaire avec le côté le plus court des quatre côtés qui sont le bord externe du masque étant supérieur ou égal à 1 000 mm en longueur, et étant agencé de telle sorte que la ligne normale de la surface sur laquelle le motif est formé dans la seconde unité fonctionnelle optique est orientée dans une direction sensiblement horizontale. Par conséquent, il est possible de fournir un dispositif d'exposition au rayonnement laser dans lequel l'influence de la déviation due au poids du masque peut être supprimée, une exposition au rayonnement laser