LITHOGRAPHIC APPARATUS AND ASSOCIATED METHODS

A lithographic method comprises forming an image of a reticle on a substrate a plurality of times. Each such image formation process comprises: illuminating a first portion of a reticle and pellicle assembly with a radiation beam; and collecting radiation scattered by the reticle and projecting it o...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SMEETS, Martin, VAN DE KERKHOF, Marcus, WOLF, Abraham, VAN DER HAM, Ronald, ENGEL, Michael, VAN GESTEL, Dries, VERMEULEN, Paul, JANSSEN, Franciscus
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A lithographic method comprises forming an image of a reticle on a substrate a plurality of times. Each such image formation process comprises: illuminating a first portion of a reticle and pellicle assembly with a radiation beam; and collecting radiation scattered by the reticle and projecting it onto a target region of a substrate using projection optics. The lithographic method further comprises periodically illuminating a second portion of the reticle and pellicle assembly with a radiation beam, the second portion of the reticle and pellicle assembly at least partially surrounding the first portion. Some pellicles are susceptible to hydrogen etching and such pellicles tend to fail in a region surrounding a central portion. Advantageously, by periodically illuminating a second portion of the reticle and pellicle assembly with a radiation beam, hydrogen etching of the second portion of the reticle and pellicle assembly can be suppressed. Un procédé lithographique consiste à former une image d'un réticule sur un substrat à plusieurs reprises. Chacun de ces processus de formation d'image consiste : à éclairer une première partie d'un ensemble réticule et pellicule avec un faisceau de rayonnement ; et à collecter le rayonnement diffusé par le réticule et à le projeter sur une région cible d'un substrat à l'aide d'une optique de projection. Le procédé lithographique consiste en outre à éclairer périodiquement une seconde partie de l'ensemble réticule et pellicule avec un faisceau de rayonnement, la seconde partie de l'ensemble réticule et pellicule entourant au moins partiellement la première partie. Certaines pellicules sont sensibles à la gravure à l'hydrogène et de telles pellicules tendent à faire défaut dans une région entourant une partie centrale. Toutefois, en éclairant périodiquement une seconde partie de l'ensemble réticule et pellicule avec un faisceau de rayonnement, la gravure à l'hydrogène de la seconde partie de l'ensemble réticule et pellicule peut être avantageusement éliminée.