PREPARING FEATURES ON A SUBSTRATE USING NANO-IMPRINT LITHOGRAPHY

In some examples, a method includes disposing a first hydrogel within a first recess of a substrate and over a pillar. The substrate may include a second recess in which the pillar is disposed, and a wall separating the first recess from the second recess. While the first hydrogel is disposed within the first recess, the pillar may be removed. After removing the pillar, a second hydrogel may be disposed within the second recess. Also provided herein are nonlimiting examples of manners in which recesses, walls, and patterned hydrogels may be formed. Dans certains exemples, un procédé consiste à disposer un premier hydrogel à l'intérieur d'un premier évidement d'un substrat et sur un pilier. Le substrat peut comprendre un second évidement dans lequel le pilier est disposé, et une paroi séparant le premier évidement du second évidement. Lorsque le premier hydrogel est disposé à l'intérieur du premier évidement, le pilier peut être retiré. Une fois le pilier retiré, un second hydrogel peut être disposé à l'intérieur du second évidement. Sont également prévus dans la présente invention des exemples non restrictifs de manières selon lesquelles des évidements, des parois et des hydrogels à motif peuvent être formés.