FILM DEPOSITION METHOD
This film deposition method is for depositing a polymer film on a surface of a substrate in a solution. The method has: a step of immersing the substrate into a first solution containing a polymerization initiator; a step of bonding a polymerization initiation group to the surface of the substrate b...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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Zusammenfassung: | This film deposition method is for depositing a polymer film on a surface of a substrate in a solution. The method has: a step of immersing the substrate into a first solution containing a polymerization initiator; a step of bonding a polymerization initiation group to the surface of the substrate by applying ultrasonic waves to the first solution; a step of immersing the substrate having the polymerization initiation group bonded to the surface into a second solution containing a polymerizable monomer; and a step of growing the polymer on the surface of the substrate by a polymerization reaction of the polymerizable monomer, starting from the polymerization initiation group.
L'invention concerne un procédé de dépôt de film pour déposer un film polymère sur une surface d'un substrat dans une solution. Le procédé comprend : une étape d'immersion du substrat dans une première solution contenant un initiateur de polymérisation ; une étape de liaison d'un groupe d'initiation de polymérisation à la surface du substrat par application d'ondes ultrasonores à la première solution ; une étape d'immersion du substrat ayant le groupe d'initiation de polymérisation lié à la surface dans une seconde solution contenant un monomère polymérisable ; et une étape de croissance du polymère sur la surface du substrat par une réaction de polymérisation du monomère polymérisable, à partir du groupe d'initiation de polymérisation.
成膜方法は、溶液中で基板の表面にポリマーの膜を形成する成膜方法であって、重合開始剤を含む第1溶液に基板を浸漬する工程と、前記第1溶液に超音波を付与して前記基板の表面に重合開始基を結合させる工程と、前記表面に前記重合開始基が結合した前記基板を、重合性モノマーを含む第2溶液に浸漬する工程と、前記基板の前記表面に、前記重合開始基を起点とした前記重合性モノマーの重合反応により前記ポリマーを成長させる工程と、を有する。 |
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