SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

A substrate processing apparatus (14) according to one embodiment of the present disclosure is provided with: a substrate holding unit (30) that holds a substrate; a front surface supply unit (40) that supplies a processing liquid to a front surface (Wa) of the substrate; a back surface supply unit...

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1. Verfasser: IKEDA, Boui
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:A substrate processing apparatus (14) according to one embodiment of the present disclosure is provided with: a substrate holding unit (30) that holds a substrate; a front surface supply unit (40) that supplies a processing liquid to a front surface (Wa) of the substrate; a back surface supply unit (50) that supplies a processing liquid to a back surface (Wb) of the substrate; and a control unit (15) that controls those units. In addition, the control unit (15) executes: processing for supplying, to the front surface (Wa) of the substrate, a film-formation processing liquid that contains a polymer that is soluble in an organic solvent, and solidifying or curing the film-formation processing liquid so as to form a process film; processing for supplying, to the front surface (Wa) of the substrate, a removal processing liquid for removing the process film; processing for supplying, to the front surface (Wa) of the substrate, a dissolution processing liquid for dissolving and removing the residue of the process film; and processing for supplying, to the back surface (Wb) of the substrate, a heated thermal processing liquid in parallel with at least one of the processing for supplying the removal processing liquid and the processing for supplying the dissolution processing liquid. Un appareil de traitement de substrat (14) selon un mode de réalisation de la présente divulgation est pourvu : d'une unité de maintien de substrat (30) qui maintient un substrat ; d'une unité d'alimentation de surface avant (40) qui apporte un liquide de traitement à une surface avant (Wa) du substrat ; d'une unité d'alimentation de surface arrière (50) qui apporte un liquide de traitement à une surface arrière (Wb) du substrat ; et d'une unité de commande (15) qui commande ces unités. De plus, l'unité de commande (15) exécute : un traitement pour apporter, à la surface avant (Wa) du substrat, un liquide de traitement filmogène qui contient un polymère qui est soluble dans un solvant organique, et solidifier ou durcir le liquide de traitement filmogène de façon à former un film de traitement ; un traitement pour apporter, à la surface avant (Wa) du substrat, un liquide de traitement d'élimination pour retirer le film de traitement ; un traitement pour apporter, à la surface avant (Wa) du substrat, un liquide de traitement de dissolution pour dissoudre et éliminer le résidu du film de traitement ; et un traitement pour apporter, à la surface arrière (Wb) du substrat, un liquide de tra