VAPOR DEPOSITION SOURCE FOR VACUUM VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND VACUUM VAPOR DEPOSITION METHOD

Provided is a vapor deposition source for a vacuum vapor deposition apparatus, the vapor deposition source being capable of vapor-depositing an aluminum film at a low cost and at a relatively high film deposition rate without compromising the function of suppressing, as much as possible, the occurrence of splash. The vapor deposition source comprises a vapor deposition boat 3 installed in a vacuum chamber 1 and a power source Ps for supplying electricity thereto. A vapor deposition material composed of aluminum can be continuously or intermittently supplied to the vapor deposition boat heated by Joule heat to melt and evaporate the vapor deposition material. The vapor deposition boat is composed of ceramics and contains an additive metal material composed of at least one metal element of titanium, tantalum, zirconium, hafnium, or niobium, such that when the vapor deposition material is melted in the crucible, the metal element is incorporated into the melt of the vapor deposition material. L'invention concerne une source de dépôt en phase vapeur pour un appareil de dépôt sous vide en phase vapeur, la source de dépôt en phase vapeur permettant de déposer en phase vapeur un film d'aluminium à un faible coût et à une vitesse de dépôt relativement élevée sans compromettre la fonction de suppression, autant que possible, de l'apparition d'éclaboussures. La source de dépôt en phase vapeur comprend un bateau de dépôt en phase vapeur (3) installé dans une chambre à vide (1) et une source d'alimentation (Ps) pour l'alimenter en électricité. Un matériau de dépôt en phase vapeur composé d'aluminium peut être fourni en continu ou par intermittence au bateau de dépôt en phase vapeur chauffé par effet Joule pour faire fondre et évaporer le matériau de dépôt en phase vapeur. Le bateau de dépôt en phase vapeur est composé de céramique et contient un matériau métallique additif composé d'au moins un élément métallique de titane, de tantale, de zirconium, d'hafnium ou de niobium, de telle sorte que lorsque le matériau de dépôt en phase vapeur est fondu dans le creuset, l'élément métallique soit incorporé dans la masse fondue du matériau de dépôt en phase vapeur. 突沸の発生が可及的に抑制されるという機能を損なうことなく、低コスト且つ比較的速い成膜速度でアルミニウム膜を蒸着できる真空蒸着装置用の蒸着源を提供する。 真空チャンバ１内に設置される蒸着ボート３と、それに通電する電源Ｐｓを備える。ジュール熱で加熱された蒸着ボートにアルミニウムからなる蒸着材料を連続的または間欠的に供給し、蒸着材料を溶解、蒸発させることができる。蒸着ボートは、セラミックスで構成されると共に、チタン、タンタル、ジルコニウム、ハフニウム及びニオブの少なくとも一種の金属元素からなる添加金属材料を含み、坩堝内で蒸着材料を溶解させると、蒸着材料の溶湯中に金属元素が含まれるようにする。