METHOD FOR PRODUCING A MEMS MIRROR ARRAY, AND MEMS MIRROR ARRAY

The invention relates to a method for producing a MEMS mirror array (100) such as can be used e.g. in photolithography, and to a MEMS mirror array (100) produced in accordance with this method. The method is distinguished in particular by the fact that before or after at least one of the production...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BROCH, Katharina, STROBEL, Sebastian, WEBER, Joern, EISENMENGER, Johannes, HAUF, Markus, ENKISCH, Hartmut, HAACKER, Fabian, SAROV, Yanko
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	The invention relates to a method for producing a MEMS mirror array (100) such as can be used e.g. in photolithography, and to a MEMS mirror array (100) produced in accordance with this method. The method is distinguished in particular by the fact that before or after at least one of the production steps provided according to the invention, at least regions of the component part forming the later MEMS mirror array (100) are provided with a protective layer (400) for protecting the underlying material against environmental influences, in particular against hydrogen-induced outgassing. L'invention concerne un procédé de production d'un réseau de miroirs MEMS (100) tel qu'il peut être utilisé par exemple en photolithographie, ainsi qu'un réseau de miroirs MEMS (100) produit selon ce procédé. Le procédé se caractérise en particulier par le fait qu'avant ou après au moins une des étapes de production selon l'invention, au moins des régions de la partie constitutive formant le réseau de miroirs MEMS (100) sont pourvues d'une couche de protection (400) pour protéger le matériau sous-jacent contre des influences environnementales, en particulier contre un dégazage induit par l'hydrogène.