THICK-FILM ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING A THICK-FILM ELEMENT

Die Erfindung umfasst ein Dickschichtelement (1), umfassend: - ein Substrat (110) bestehend aus einer Titanlegierung, und - eine Isolationsschicht (120), welche eine Oberfläche des Substrats (110) zumindest teilweise bedeckt, wobei die Isolationsschicht (120) aus einer auf die Oberfläche des Substra...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MERUNKA, Milan, WOLF, Stefan, KOCINCOVÀ, Anna
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die Erfindung umfasst ein Dickschichtelement (1), umfassend: - ein Substrat (110) bestehend aus einer Titanlegierung, und - eine Isolationsschicht (120), welche eine Oberfläche des Substrats (110) zumindest teilweise bedeckt, wobei die Isolationsschicht (120) aus einer auf die Oberfläche des Substrats (110) aufgebrachten und bei einer Temperatur zwischen 600 °C und 700 °C eingebrannten Glaspaste gebildet ist, welche Glaspaste im ursprünglichen Zustand eine Glasfritte und einen organischen Träger aufweist, wobei die Glasfritte ein Bi2O3 - B2O3 - BaO - ZnO - SrO - CaO - Al2O3-Glassystem enthält, sowie ein Verfahren zum Herstellen eines solchen Dickschichtelements (1). The invention relates to a thick-film element (1) comprising: - a substrate (110) consisting of a titanium alloy and - an insulating layer (120) which at least partly covers a surface of the substrate (110). The insulating layer (120) is made of a glass paste which is applied to the surface of the substrate (110) and is baked at a temperature ranging from 600°C to 700°C, said glass paste in the original state having a glass frit and an organic carrier, wherein the glass frit contains a Bi2O3 - B2O3 - BaO - ZnO - SrO - CaO - Al2O3 glass system. The invention also relates to a method for producing such a thick-film element (1). L'invention concerne un élément à couche épaisse (1) comprenant : -un substrat (110) constitué d'un alliage de titane et -une couche isolante (120) qui recouvre au moins partiellement une surface du substrat (110). La couche isolante (120) est faite d'une pâte de verre qui est appliquée sur la surface du substrat (110) et est cuite à une température allant de 600 °C à 700 °C, ladite pâte de verre dans l'état d'origine ayant une fritte de verre et un support organique, la fritte de verre contenant un système de verre Bi2O3 - B2O3 - BaO - ZnO - SrO - CaO - Al2O3. La présente invention concerne en outre un procédé de production d'un tel élément à couche épaisse (1).