OVERLAY METROLOGY BASED ON A FRINGE PATTERN

Measuring overlay using a microscope based sensor is described. This provides the ability to measure alignment and overlay with a single system, among other advantages. The signal from the sensor is an intensity modulated fringe pattern (e.g., an interference pattern). The sensor is configured to generate the intensity modulated fringe pattern based on diffracted radiation received from a first metrology mark in a first layer of a patterned substrate and a second metrology mark in a second layer of the patterned substrate. The intensity modulated fringe pattern is filtered for an expected fringe period. An amplitude, phase, and/or other parameters of fringes of the filtered fringe pattern are used to determine an overlay value. L'invention concerne la mesure de superposition à l'aide d'un capteur basé sur un microscope. Ceci permet de mesurer l'alignement et la superposition avec un seul système, entre autres avantages. Le signal provenant du capteur est un motif de franges modulé en intensité (un motif d'interférence, par exemple). Le capteur est conçu pour générer le motif de franges modulé en intensité sur la base d'un rayonnement diffracté reçu en provenance d'un premier repère de métrologie dans une première couche d'un substrat à motifs et d'un second repère de métrologie dans une seconde couche du substrat à motifs. Le motif de franges modulé en intensité est filtré pendant une période de frange attendue. Une amplitude, une phase et/ou d'autres paramètres de franges du motif de franges filtré sont utilisés pour déterminer une valeur de superposition.