FILM FORMING APPARATUS

The present invention provides a film forming apparatus which is capable of making the boundary of an external electrode constant and clear and suppressing variations in the appearance and the quality. A film forming apparatus 1 according to an embodiment of the present invention comprises: a mask 1...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: IKEDO Mitsuru, MATSUHASHI Ryo, KUBOTA Shota
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention provides a film forming apparatus which is capable of making the boundary of an external electrode constant and clear and suppressing variations in the appearance and the quality. A film forming apparatus 1 according to an embodiment of the present invention comprises: a mask 110 which has a mask hole 112; a sub-mask 120 which is superposed on the mask 110 and has a guide hole 122; and a receiving stage 130 with which one end surface T of an electronic component C comes into contact. A target 352 is disposed so as to face the upper surfaces of the mask 110 and the sub-mask 120 in an inclined manner, and the mask 110 and the sub mask 120 have a slide mechanism 144 for shifting the relative position of the guide hole 122 so as to bring one corner of the electronic component C into contact with one corner of the guide hole 122 that faces the normal N of the target 352. La présente invention concerne un appareil de formation de film qui est apte à rendre constante et claire la limite d'une électrode externe et de supprimer les variations d'aspect et de qualité. Un appareil de formation de film (1) selon un mode de réalisation de la présente invention comprend : un masque (110) qui comporte un orifice de masque (112) ; un sous-masque (120) qui est superposé sur le masque (110) et comporte un orifice de guidage (122) ; et un étage de réception (130) avec lequel une surface d'extrémité (T) d'un composant électronique (C) vient en contact. Une cible (352) est disposée de façon à faire face aux surfaces supérieures du masque (110) et du sous-masque (120) de manière inclinée, et le masque (110) et le sous-masque (120) comportent un mécanisme de coulissement (144) permettant de décaler la position relative de l'orifice de guidage (122) de façon à amener un angle du composant électronique (C) en contact avec un angle de l'orifice de guidage (122) qui fait face à la normale (N) de la cible (352). 外部電極の境界を一定に且つ明確にすることができ、外観や品質のばらつきを抑える成膜装置を提供する。実施形態の成膜装置1は、マスク孔112を有するマスク110と、マスク110に重ねられガイド孔122を有するサブマスク120と、電子部品Cの一方の端面Tが接触する受台130とを有し、ターゲット352が、マスク110及びサブマスク120の上面と傾斜して対向して配設され、マスク110及びサブマスク120が、ターゲット352の法線Nに向いているガイド孔122の1つの隅に、電子部品Cの1つの角を接触させるように、ガイド孔122の相対位置をずらすスライド機構144を有する。