QUANTITATIVE IMAGE ANALYSIS SYSTEM FOR EVALUATING SURFACE-BASED COATING PERFORMANCE
A method for quantifying surface defects on a coated substrate, comprising: a) providing a system for acquiring and analyzing images; b) loading a coated substrate on the holder, wherein the coated substrate comprises a coating formed on a surface of a substrate; c) illuminating the coated substrate...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A method for quantifying surface defects on a coated substrate, comprising: a) providing a system for acquiring and analyzing images; b) loading a coated substrate on the holder, wherein the coated substrate comprises a coating formed on a surface of a substrate; c) illuminating the coated substrate with a lighting system, wherein illuminating the coated substrate comprising illuminating the coated substrate at an angle of incidence of 15° to 85° relative to a plane parallel to a surface of the coated substrate to generate shadows of any defects on the surface of the coated substrate; d) acquiring at least one image of the coated substrate with an imaging system; e) transforming the at least one image of the coated substrate with an analysis unit to provide at least one transformed image and quantifying the surface defects on the coated substrate based on the at least one transformed image; and f) providing an output, wherein the output comprises a value identifying an amount or percentage of the defects on the coated substrate and/or a generated image illustrating the amount or percentage of the surface defects on the coated substrate.
L'invention concerne un procédé de quantification de défauts de surface sur un substrat revêtu, qui consiste à : a) fournir un système d'acquisition et d'analyse d'images ; b) charger un substrat revêtu sur le support, le substrat revêtu comprenant un revêtement formé sur une surface d'un substrat ; c) éclairer le substrat revêtu avec un système d'éclairage, l'éclairage du substrat revêtu comprenant l'éclairage du substrat revêtu à un angle d'incidence de 15° à 85° par rapport à un plan parallèle à une surface du substrat revêtu pour générer des ombres de tout défaut sur la surface du substrat revêtu ; d) acquérir au moins une image du substrat revêtu avec un système d'imagerie ; e) transformer la ou les images du substrat revêtu avec une unité d'analyse pour fournir au moins une image transformée et quantifier les défauts de surface sur le substrat revêtu sur la base de la ou des images transformées ; et f) fournir une sortie, la sortie comprenant une valeur identifiant une quantité ou un pourcentage des défauts sur le substrat revêtu et/ou une image générée illustrant la quantité ou le pourcentage des défauts de surface sur le substrat revêtu. |
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