QUANTITATIVE IMAGE ANALYSIS METHOD FOR EVALUATING COLOR-BASED COATING PERFORMANCE

A method for quantifying defects on a coated substrate, comprises: a) providing an system for acquiring and analyzing images; b) loading a coated substrate on a holder, wherein the coated substrate comprises a coating formed on a surface of a substrate; c) illuminating the coated substrate with a li...

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Hauptverfasser: HU, Yicheng, DEROCHER, Jonathan P, TRAN, Michael Q, HENDERSON, Kevin J, BENEDICT, Matthew Nicholas, KIM, Sun Hye, LINSEN, Michael W, SHUANG, Bo, ZHOU, Xingyu, LIEW, Alicia, BISHT, Nipun
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method for quantifying defects on a coated substrate, comprises: a) providing an system for acquiring and analyzing images; b) loading a coated substrate on a holder, wherein the coated substrate comprises a coating formed on a surface of a substrate; c) illuminating the coated substrate with a lighting system; d) acquiring at least one image of the coated substrate with an imaging system; e) transforming the at least one image of the coated substrate with an analysis unit to provide at least one transformed image and quantifying defects on the coated substrate based on the at least one transformed image; and f) providing an output, wherein the output comprises a value identifying an amount or percentage of the defects on the coated substrate and/or a generated image illustrating the amount or percentage of the defects on the coated substrate. L'invention concerne un procédé de quantification de défauts sur un substrat revêtu comprenant : a) la fourniture d'un système d'acquisition et d'analyse d'images; b) le chargement d'un substrat revêtu sur un support, le substrat revêtu comprenant un revêtement formé sur une surface d'un substrat; c) l'éclairage du substrat revêtu à l'aide d'un système d'éclairage; d) l'acquisition d'au moins une image du substrat revêtu à l'aide d'un système d'imagerie; e) la transformation de ladite au moins une image du substrat revêtu à l'aide d'une unité d'analyse pour fournir au moins une image transformée et quantifier des défauts sur le substrat revêtu sur la base de ladite au moins une image transformée; et f) la délivrance d'un résultat, le résultat comprenant une valeur identifiant une quantité ou un pourcentage de défauts sur le substrat revêtu et/ou une image générée illustrant la quantité ou le pourcentage de défauts sur le substrat revêtu.