ENDPOINT DETECTION USING SPECTRAL OR TEMPORAL PATTERN MATCHING

An endpoint detection system to detect an endpoint of treatment of a substrate in a processing chamber includes a first sensor configured to generate a first plurality of signals in response to one of an intensity of plasma light within a processing chamber, reflectometry from a surface of a substrate in the processing chamber, and absorption of process gases or byproducts evacuated from the processing chamber. A controller is configured to calculate a first plurality of correlation coefficients in response to the first plurality of signals, respectively, and a reference signal and detect an endpoint of the treatment in response to the first plurality of correlation coefficients. Un système de détection de point final pour détecter un point final de traitement d'un substrat dans une chambre de traitement comprend un premier capteur configuré pour générer une première pluralité de signaux en réponse à l'une parmi une intensité de lumière de plasma à l'intérieur d'une chambre de traitement, une réflectométrie à partir d'une surface d'un substrat dans la chambre de traitement, et une absorption de gaz de traitement ou de sous-produits évacués de la chambre de traitement. Un dispositif de commande est configuré pour calculer une première pluralité de coefficients de corrélation en réponse à la première pluralité de signaux, respectivement, et un signal de référence et détecter un point final du traitement en réponse à la première pluralité de coefficients de corrélation.