FINE PATTERNING METHOD FOR ORGANIC LAYER AND RGB PIXEL STRUCTURE FOR DISPLAY FORMED BY METHOD
The present invention relates to a fine patterning method for an organic layer and an RGB pixel structure for a display formed by the method, and more particularly, to a method for forming RGB OLED pixels by using a dry patterning resin without a Fine Metal Mask (FMM). A fine patterning method for a...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to a fine patterning method for an organic layer and an RGB pixel structure for a display formed by the method, and more particularly, to a method for forming RGB OLED pixels by using a dry patterning resin without a Fine Metal Mask (FMM). A fine patterning method for an organic layer according to an aspect of an embodiment of the present invention comprises: an anode electrode forming step of forming an anode electrode on a substrate; a dry patterning resin (DPR) layer forming step of forming a DPR layer on the substrate and the anode electrode; a DPR layer expansion step of arranging, on an upper part, a mask corresponding to the DPR layer to form a pattern and applying UV and heat to expand the DPR layer in a pattern region; and a pattern region forming step of forming a pattern region of any one of RGB OLED sub-pixels by removing the expanded DPR layer through a lift-off or dry etching process.
La présente invention concerne un procédé de modelage fin pour couche organique et une structure de pixels RVB destinée à un affichage formé au moyen du procédé. Elle concerne plus particulièrement un procédé de formation de pixels OLED RVB à l'aide d'une résine de modelage à sec sans masque métallique fin (FMM). Selon un aspect d'un mode de réalisation de la présente invention, un procédé de modelage fin pour couche organique comprend : une étape de formation d'une électrode d'anode consistant à former une électrode d'anode sur un substrat; une étape de formation d'une couche de résine de modelage à sec (DPR) consistant à former une couche DPR sur le substrat et l'électrode d'anode; une étape d'expansion de couche DPR consistant à agencer, sur une partie supérieure, un masque correspondant à la couche DPR de façon à former un motif et à appliquer des UV et de la chaleur de façon à étendre la couche DPR dans une région du motif; et une étape de formation d'une région du motif consistant à former une région du motif de l'un quelconque des sous-pixels OLED RVB en retirant la couche DPR étendue par l'intermédiaire d'un processus de décollement ou de gravure sèche.
본 발명은 유기층의 미세 패턴화 방법 및 그 방법으로 형성된 디스플레이용 RGB 픽셀 구조체에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 FMM(Fine Metal Mask) 없이 Dry Patterning Resin 수지를 이용하여 RGB OLED 픽셀을 형성하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 형태에 따른 유기층의 미세 패턴화 방법은, 기판 상에 애노드 전극을 형성하는, 애노드 전극 형성단계; 상기 기판 및 애노드 전극 상에 Dry Patterning Resin(DPR, 건식 패터닝 수지)층을 형성하는, DPR층 형성단계; 패턴을 형성시킬 DPR층에 대응되는 마스크를 상부에 배치하고 UV 및 열을 가하여 패턴 영역의 DPR층을 팽창시키는, DPR층 팽창단계; 및 상기 |
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