RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, AND COMPOUND

This resist composition comprises: a resin component (A1), the solubility of which to a liquid developer changes due to the action of an acid; and a fluorine-containing polymer compound (F0) having a structural unit (f0) derived from a compound represented by general formula (f0-1). In the formula, W1 is a polymerizable group. Ar represents an aromatic ring. Xf represents an iodine atom or a substituent containing an iodine atom. Lf01 represents a single bond or a linking group having a valance of (n1+1). Rf01 represents a fluorinated alkyl group having 1-12 carbon atoms. Rf02 represents a hydrogen atom or an organic group having 1-12 carbon atoms and optionally having a fluorine atom. Rf03 represents a substituent other than an iodine atom. La présente composition de réserve comprend : un composant de résine (A1) dont la solubilité dans un révélateur liquide change en raison de l'action d'un acide ; et un composé polymère contenant du fluor (F0) ayant un motif constitutif (f0) dérivé d'un composé représenté par la formule générale (f0-1). Dans la formule, W1 est un groupe polymérisable. Ar représente un cycle aromatique. Xf représente un atome d'iode ou un substituant contenant un atome d'iode. Lf01 représente une liaison simple ou un groupe de liaison ayant une valence de (n1 + 1). Rf0 représente un groupe alkyle fluoré ayant de 1 à 12 atomes de carbone. Rf02 représente un atome d'hydrogène ou un groupe organique ayant de 1 à 12 atomes de carbone et ayant éventuellement un atome de fluor. Rf03 représente un substituant autre qu'un atome d'iode. 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｆ０－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ｆ０）を有する含フッ素高分子化合物（Ｆ０）と、を含有するレジスト組成物。式中、Ｗ１は重合性基である。Ａｒは芳香環である。Ｘｆは、ヨウ素原子、又はヨウ素原子を含有する置換基である。Ｌｆ０１は、単結合又は（ｎ１＋１）価の連結基である。Ｒｆ０１は、炭素数１～１２のフッ素化アルキル基である。Ｒｆ０２は、フッ素原子を有しても良い炭素数１～１２の有機基又は水素原子である。Ｒｆ０３は、ヨウ素原子以外の置換基である。