SUBSTRATE SUPPORT AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

A substrate support configured to support a substrate, comprising an upper component, a core component and a lower component; wherein: a first opening is formed in an upper surface of the upper component; a first passageway communicating with the first opening is defined in the upper component and the core component; a first extraction channel communicating with the first passageway is defined by the core component and the lower component; and a first conditioning channel is defined by the core component and the lower component. L'invention concerne un support de substrat conçu pour supporter un substrat, comprenant un composant supérieur, un composant central et un composant inférieur ; dans lequel : une première ouverture est formée dans une surface supérieure du composant supérieur ; un premier passage communiquant avec la première ouverture est défini dans le composant supérieur et le composant central ; un premier canal d'extraction communiquant avec le premier passage est défini par le composant central et le composant inférieur ; et un premier canal de conditionnement est défini par le composant central et le composant inférieur.