METHODS AND SYSTEMS FOR DETERMINING A PROPERTY OF EUV RADIATION

A sensor for determining a property of an EUV radiation beam provided by an EUV radiation source. The sensor comprises first and second electrodes, each of the first and second electrodes configured to substantially surround a cross-section of the EUV radiation beam. The sensor further comprises a v...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BLAUW, Michiel, DE MUNSHI, Debashis, VAN KAMPEN, Maarten
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A sensor for determining a property of an EUV radiation beam provided by an EUV radiation source. The sensor comprises first and second electrodes, each of the first and second electrodes configured to substantially surround a cross-section of the EUV radiation beam. The sensor further comprises a voltage source configured to apply a potential difference across the first and second electrodes and a current sensor configured to measure a current flowing between the first and second electrodes. L'invention concerne un capteur permettant de déterminer une propriété d'un faisceau de rayonnement EUV fourni par une source de rayonnement EUV. Le capteur comprend des première et seconde électrodes, chacune des première et seconde électrodes étant conçue pour entourer sensiblement une section transversale du faisceau de rayonnement EUV. Le capteur comprend en outre une source de tension conçue pour appliquer une différence de potentiel à travers les première et seconde électrodes et un capteur de courant conçu pour mesurer un courant circulant entre les première et seconde électrodes.