RELEASE FILM, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND FILM LAMINATE

The purpose of the present invention is to provide a release film that can be stably used in manufacturing processes, exhibits low peel strength, and does not undergo release-layer deformation. A release film having a release layer on at least one surface of a base-material film, the elastic modulus (E) of the release film as measured from the release-layer-surface side using an atomic force microscope being at least 1.5 MPa but less than 5.0 MPa, the thickness of the release layer being at least 0.03 μm but less than 0.3 μm, and deformation in the release layer being equal to or less than 0.1 μm as a difference in height. Le but de la présente invention est de fournir un film antiadhésif qui peut être utilisé de manière stable dans des processus de fabrication, présente une faible résistance au pelage et ne subit pas de déformation de couche antiadhésive. L'invention concerne un film antiadhésif ayant une couche antiadhésive sur au moins une surface d'un film de matériau de base, le module élastique (E) du film antiadhésif tel que mesuré à partir du côté de surface de couche antiadhésive à l'aide d'un microscope à force atomique étant d'au moins 1,5 MPa mais inférieur à 5,0 MPa, l'épaisseur de la couche antiadhésive étant d'au moins 0,03 µm mais inférieure à 0,3 µm, et la déformation dans la couche antiadhésive étant inférieure ou égale à 0,1 µm en tant que différence de hauteur. 製造工程上で安定して使用できる小さな剥離力を示し、離型層の変形がない離型フィルムを提供することを目的とする。基材フィルムの少なくとも一方の面に離型層を有する離型フィルムであって、原子間力顕微鏡を用いて前記離型層面側から測定される離型フィルムの弾性率（Ｅ）が１．５ＭＰａ以上、５．０ＭＰａ未満、かつ離型層の厚みが０．０３μｍ以上、０．３μｍ未満、かつ離型層の変形が高低差で０．１μｍ以下である離型フィルムである。