METHOD AND SYSTEMS FOR BALANCING CHARGES ON A SURFACE OF AN OBJECT COMPRISING INTEGRATED CIRCUIT PATTERNS IN A SCANNING ELECTRON MICROSCOPE

The invention relates to a method (22) for balancing charges on a surface (32) of an object (64) comprising integrated circuit patterns in a scanning electron microscope (27, 27'), the method (22) comprising: scanning an area (34) on the surface (32) of the object (64) with a first electron beam with a first landing energy one or more times to generate a scanning electron microscopy image of the area (34) and subsequently scanning the area (34) on the surface (32) of the object (64) with a second electron beam with a second landing energy one or more times such that the charges accumulated on the surface (32) of the object (34) are at least partially balanced. The invention also relates to scanning electron microscopes (27, 27') with a single or dual beam column setup for imaging and erasing the accumulated charges. L'invention concerne un procédé (22) d'équilibrage de charges sur une surface (32) d'un objet (64) comprenant des motifs de circuit intégré dans un microscope électronique à balayage (27, 27'), le procédé (22) comprenant : le balayage d'une zone (34) sur la surface (32) de l'objet (64) avec un premier faisceau d'électrons possédant une première énergie d'atterrissage une ou plusieurs fois pour générer une image de microscopie électronique à balayage de la zone (34) et ensuite le balayage de la zone (34) sur la surface (32) de l'objet (64) avec un second faisceau d'électrons possédant une seconde énergie d'atterrissage une ou plusieurs fois de telle sorte que les charges accumulées sur la surface (32) de l'objet (34) sont au moins partiellement équilibrées. L'invention concerne également des microscopes électroniques à balayage (27, 27') avec une configuration de colonne à faisceau unique ou double pour l'imagerie et l'effacement des charges accumulées.