OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM

Ein optisches System (100A, 100B) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend ein optisches Element (102, 102', 212), eine Tragstruktur (134, 214) zum Tragen des optischen Elements (102, 102', 212), und eine Schnittstelle (128A, 128B, 128C, 128D, 128E), mit deren Hilfe das optisc...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	LIMBACH, Guido, OEZTUERK, Semih
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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