OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM

Ein optisches System (100A, 100B) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend ein optisches Element (102, 102', 212), eine Tragstruktur (134, 214) zum Tragen des optischen Elements (102, 102', 212), und eine Schnittstelle (128A, 128B, 128C, 128D, 128E), mit deren Hilfe das optisc...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LIMBACH, Guido, OEZTUERK, Semih
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein optisches System (100A, 100B) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend ein optisches Element (102, 102', 212), eine Tragstruktur (134, 214) zum Tragen des optischen Elements (102, 102', 212), und eine Schnittstelle (128A, 128B, 128C, 128D, 128E), mit deren Hilfe das optische Element (102, 102', 212) mit der Tragstruktur (134, 214) gekoppelt ist, wobei die Schnittstelle (128A, 128B, 128C, 128D, 128E) eine erste Hirth-Verzahnung (152), die dem optischen Element (102, 102', 212) zugeordnet ist, und eine zweite Hirth-Verzahnung (166), die der Tragstruktur (134, 214) zugeordnet ist, aufweist, und wobei die erste Hirth-Ver- zahnung (152) und die zweite Hirth-Verzahnung (166) formschlüssig ineinandergreifen, um eine Lage des optischen Elements (102, 102', 212) in einem Referenzkoordinatensystem (K) festzulegen. The invention relates to an optical system (100A, 100B) for a projection exposure system (1), having an optical element (102, 102', 212), a support structure (134, 214) for supporting the optical element (102, 102', 212), and an interface (128A, 128B, 128C, 128D, 128E), which is used to couple the optical element (102, 102', 212) to the support structure (134, 214), wherein the interface (128A, 128B, 128C, 128D, 128E) has a first Hirth-type toothing (152), which is paired with the optical element (102, 102', 212), and a second Hirth-type toothing (166), which is paired with the support structure (134, 214), and the first Hirth-type toothing (152) and the second Hith-type toothing (166) mesh with each other in a form-fitting manner in order to fix the position of the optical element (102, 102', 212) in a reference coordinate system (K). L'invention concerne un système optique (100A, 100B) pour un équipement d'exposition par projection (1), ledit système optique comprenant un élément optique (102, 102', 212), une structure porteuse (134, 214) destinée à supporter l'élément optique (102, 102', 212), et une interface (128A, 128B, 128C, 128D, 128E), au moyen de laquelle l'élément optique (102, 102', 212) est couplé à la structure porteuse (134, 214), l'interface (128A, 128B, 128C, 128D, 128E) présentant une première denture Hirth (152), qui est associée à l'élément optique (102, 102', 212), et une seconde denture Hirth (166), qui est associée à la structure porteuse (134, 214), et la première denture Hirth (152) et la seconde denture Hirth (166) s'engrenant par complémentarité de forme, de manière à définir une position de l'élément optique (10