GAS SUPPLY FOR A PLASMA ARC MATERIAL PROCESSING SYSTEM

A gas supply system is provided for a gas-cooled plasma arc material processing system. The gas supply system includes a gas pressure control valve disposed relative to a gas-cooled plasma arc torch in the plasma arc material processing system and a gas selector valve fluidly connected to (i) at least two gas supplies and (ii) a torch lead coupled to the plasma arc torch. The gas selector valve located upstream from both the torch lead and the gas pressure control valve. The gas supply system also includes a switching device operably connected to the gas selector valve. The switching device is configured to manipulate a position of the gas selector valve to supply a gas from one of the at least two gas supplies to the plasma arc torch via the lead. L'invention concerne un système d'alimentation en gaz pour un système de traitement de matériau à arc de plasma refroidi par gaz. Le système d'alimentation en gaz comprend une soupape de commande de pression de gaz disposée par rapport à un chalumeau à arc de plasma refroidi par gaz dans le système de traitement de matériau à arc de plasma et une soupape de sélection de gaz en communication fluidique avec (i) au moins deux alimentations en gaz et (ii) un conducteur de chalumeau couplé au chalumeau à arc de plasma. La soupape de sélection de gaz est située en amont à la fois du conducteur de chalumeau et de la soupape de commande de pression de gaz. Le système d'alimentation en gaz comprend également un dispositif de commutation connecté de manière fonctionnelle à la soupape de sélection de gaz. Le dispositif de commutation est configuré pour manipuler une position de la soupape de sélection de gaz afin de fournir un gaz à partir de l'une des au moins deux alimentations en gaz au chalumeau à arc de plasma par l'intermédiaire du conducteur.