MASK-METROLOGY MEASURING DEVICE AND METHOD FOR EXAMINING A PHOTOMASK

Maskenmetrologische Messvorrichtung, umfassend eine Strahlungsquelle (14), ein Beleuchtungssystem (16), ein Abbildungssystem (19) und einen Bildsensor (20). Das Beleuchtungssystem (16) ist dazu ausgelegt, in einem ersten Messzustand ein erstes Beleuchtungsfeld (22) auf einer Fotomaske (17) mit von der Strahlungsquelle (14) abgegebener Strahlung zu beleuchten. Das Abbildungssystem (19) ist dazu ausgelegt, aus dem ersten Beleuchtungsfeld (22) eine Abbildung auf dem Bildsensor (20) abzubilden. Die Messvorrichtung kann zwischen einem ersten Messzustand und einem zweiten Messzustand umgeschaltet werden, Im zweiten Messzustand wird ein zweites Beleuchtungsfeld (23) auf der Fotomaske (17) beleuchtet, wobei das erste Beleuchtungsfeld (22) innerhalb des zweiten Beleuchtungsfelds (23) angeordnet ist. Im zweiten Messzustand wird das erste Beleuchtungsfeld (22) nicht beleuchtet. Im zweiten Messzustand erzeugtes Streulicht wird mit dem Bildsensor (20) aufgenommen. The invention relates to a mask-metrology measuring device comprising a radiation source (14), an illuminating system (16), an imaging system (19) and an image sensor (20). The illuminating system (16) is designed to illuminate, in a first measurement state, a first illumination field (22) on a photomask (17) using radiation emitted by the radiation source (14). The imaging system (19) is designed to image an image on the image sensor (20) from the first illumination field (22). The measuring device can be switched between a first measurement state and a second measurement state. In the second measurement state, a second illumination field (23) on the photomask (17) is illuminated, the first illumination field (22) being located within the second illumination field (23). In the second measurement state, the first illumination field (22) is not illuminated. In the second measurement state, generated scattered light is sensed by means of the image sensor (20). L'invention concerne un dispositif de mesure de métrologie de masque comprenant une source de rayonnement (14), un système d'éclairage (16), un système d'imagerie (19) et un capteur d'image (20). Le système d'éclairage (16) est conçu pour éclairer, dans un premier état de mesure, un premier champ d'éclairage (22) sur un photomasque (17) à l'aide d'un rayonnement émis par la source de rayonnement (14). Le système d'imagerie (19) est conçu pour imager une image sur le capteur d'image (20) à partir du premier champ d'éclairage (22). Le dispositif de mesure p