SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Provided is a substrate processing apparatus for processing a substrate, the apparatus comprising: a chamber having an internal space; a support unit for supporting the substrate in the internal space; a gas supply unit for supplying processing gas to the internal space; a window covering the top of the internal space; a coil unit disposed above the window; a power supply unit for applying high-frequency power to the coil unit; and a magnetic regulator which is disposed above the coil unit and in which an eddy current is generated through electromagnetic induction by the coil unit. L'invention concerne un appareil de traitement de substrat pour traiter un substrat, l'appareil comprenant : une chambre ayant un espace interne ; une unité de support pour supporter le substrat dans l'espace interne ; une unité d'alimentation en gaz pour fournir un gaz de traitement à l'espace interne ; une fenêtre recouvrant la partie supérieure de l'espace interne ; une unité de bobine disposée au-dessus de la fenêtre ; une unité d'alimentation électrique pour appliquer une puissance haute fréquence à l'unité de bobine ; et un régulateur magnétique qui est disposé au-dessus de l'unité de bobine et dans lequel un courant de Foucault est généré par induction électromagnétique par l'unité de bobine. 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 있어서, 내부 공간을 가지는 챔버; 상기 내부 공간에서 상기 기판을 지지하는 지지 유닛; 상기 내부 공간으로 처리 가스를 공급하는 가스 공급 유닛; 상기 내부 공간의 상단을 덮는 윈도우; 상기 윈도우의 상부에 배치되는 코일부; 상기 코일부에 고주파 전력을 인가하는 전원부; 및, 상기 코일부의 상부에 배치되며, 상기 코일부에 의해 전자기 유도되어 맴돌이 전류가 발생되는 자기조절체; 를 포함하는 기판 처리 장치가 제공된다.