SILICON CONCENTRATION PREDICTION METHOD, OPERATION GUIDANCE METHOD, SILICON CONCENTRATION PREDICTION DEVICE, OPERATION GUIDANCE DEVICE, OPERATION GUIDANCE SYSTEM, AND TERMINAL DEVICE
The silicon concentration prediction method includes: a prediction step (S1) for predicting a future prediction value and a current value of silicon concentration using a statistical model and physical model in which an operating variable of a blast furnace is used as input and silicon concentration...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | The silicon concentration prediction method includes: a prediction step (S1) for predicting a future prediction value and a current value of silicon concentration using a statistical model and physical model in which an operating variable of a blast furnace is used as input and silicon concentration is used as output; and an adjustment amount calculation step (S3) for, if the predicted value or the current value largely deviate from a target value, calculating the adjustment amount of the charging amount of a desiliconization material for the operation action that reduces the silicon concentration by charging the desiliconization material, or for calculating the adjustment amount of the operating variable for the operation action that controls the heat level in the blast furnace in order to increase the silicon concentration at the time of tapping before desiliconization.
L'invention concerne un procédé de prédiction de concentration de silicium qui comprend : une étape de prédiction (S1) pour prédire une valeur de prédiction future et une valeur actuelle de concentration de silicium à l'aide d'un modèle statistique et d'un modèle physique dans lequel une variable d'opération d'un haut-fourneau est utilisée comme entrée et la concentration de silicium est utilisée comme sortie ; et une étape de calcul de quantité de réglage (S3) pour calculer, si la valeur prédite ou la valeur actuelle s'écarte largement d'une valeur cible, la quantité de réglage de la quantité de charge d'un matériau de désiliciuration pour l'action d'opération qui réduit la concentration de silicium en chargeant le matériau de désiliciuration, ou pour calculer la quantité de réglage de la variable d'opération pour l'action d'opération qui commande le niveau de chaleur dans le haut-fourneau afin d'augmenter la concentration de silicium au moment du piquage avant la désiliciuration.
Si濃度予測方法は、高炉の操業変数を入力とし、Si濃度を出力とする統計モデル及び物理モデルを用いてSi濃度の将来の予測値及び現在値を予測する予測ステップ(S1)と、予測値又は現在値が目標値から大きく乖離する場合に、脱珪材を投入することでSi濃度を低下させる操業アクションにおける脱珪材の投入量の調整量又は脱珪前の出銑時のSi濃度を上昇させるために高炉内の熱レベルを制御する操業アクションにおける操業変数の調整量を算出する調整量算出ステップ(S3)と、を含む。 |
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