SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

A substrate processing apparatus (1) discharges, onto a substrate W, a processing solution in which a plurality of types of liquids are mixed. The substrate processing apparatus (1) comprises a prescribed liquid storage tank (54), a same-type liquid supply unit (200), a discharge unit (20), and a recovery unit (110). The prescribed liquid storage tank (54) stores a prescribed liquid that is one of the plurality of types of liquids for producing the processing solution. The same-type liquid supply unit (200) includes a first storage tank (204) that stores a first same-type liquid which is the same type as the prescribed liquid. The discharge unit (20) discharges the first same-type liquid onto the substrate W before the processing solution is discharged onto the substrate W. The recovery unit (110) recovers the first same-type liquid that has been discharged onto the substrate W and supplies the first same-type liquid to the first storage tank (204). The temperature of the first same-type liquid is higher than room temperature. The first same-type liquid is not used as any of the plurality of liquids. L'invention concerne un appareil de traitement de substrat (1) qui décharge, sur un substrat W, une solution de traitement dans laquelle une pluralité de types de liquides sont mélangés. L'appareil de traitement de substrat (1) comprend un réservoir de stockage de liquide prescrit (54), une unité d'alimentation en liquide de même type (200), une unité de décharge (20) et une unité de récupération (110). Le réservoir de stockage de liquide prescrit (54) stocke un liquide prescrit qui est l'un de la pluralité de types de liquides pour la production de la solution de traitement. L'unité d'alimentation en liquide de même type (200) comporte un premier réservoir de stockage (204) qui stocke un premier liquide de même type qui est du même type que le liquide prescrit. L'unité de décharge (20) décharge le premier liquide de même type sur le substrat W avant la décharge de la solution de traitement sur le substrat W. L'unité de récupération (110) récupère le premier liquide de même type qui a été déchargé sur le substrat W et alimente en premier liquide de même type le premier réservoir de stockage (204). La température du premier liquide de même type est supérieure à la température ambiante. Le premier liquide de même type n'est pas utilisé en tant que l'un quelconque de la pluralité de liquides. 基板処理装置（１）は、複数種類の液体が混合された処理液を基板Ｗに吐出する。基板処理装置（１）は、所定液体貯留槽（５４）と同種液体供給部（２００