OPTIMIZED FILM DEPOSITION AND ION IMPLANTATION FOR MITIGATION OF STRESS AND DEFORMATION IN SUBSTRATES

Disclosed systems and techniques are directed to correct an out-of-plane deformation (OPD) of a substrate (e.g., wafer) by identifying, using optical inspection data, a profile of the OPD of the substrate and performing a polynomial decomposition of the profile to determine polynomial coefficients characterizing elemental deformation shapes of the substrate. The techniques further include identifying, based on the polynomial coefficients, characteristics of a stress-compensation layer (SCL) for the substrate and causing the SCL to be deposited on the substrate. The techniques further include performing statistical simulations to identify settings for a non-uniform stress-mitigation irradiation of the SCL, by sampling from one or more statistical distributions associated with previously performed stress-mitigation irradiations, and performing the non-uniform stress-mitigation irradiation of the SCL using the identified settings. L'invention divulgue des systèmes et des techniques pour corriger une déformation hors plan (OPD) d'un substrat (par exemple, une tranche) en identifiant, à l'aide de données d'inspection optique, un profil de l'OPD du substrat et en réalisant une décomposition polynomiale du profil pour déterminer des coefficients polynomiaux caractérisant des formes de déformation élémentaire du substrat. Les techniques consistent en outre à identifier, sur la base des coefficients polynomiaux, des caractéristiques d'une couche de compensation de contrainte (SCL) pour le substrat et à amener la SCL à être déposée sur le substrat. Les techniques consistent en outre à réaliser des simulations statistiques pour identifier des réglages pour une irradiation d'atténuation de contrainte non uniforme de la SCL, par échantillonnage à partir d'une ou de plusieurs distributions statistiques associées à des irradiations d'atténuation de contrainte précédemment effectuées, et à réaliser l'irradiation d'atténuation de contrainte non uniforme de la SCL à l'aide des réglages identifiés.