BIAXIAL OPTICAL SENSOR SYSTEM

This disclosure pertains to biaxial optical sensor systems that may be used to evaluate variations in thickness and/or elevational changes about the circumference of an object, e.g., a semiconductor wafer, as the object is rotated about a rotational axis. Such sensor systems may feature a pair of light sources and corresponding light detectors. Each light source may be configured to direct light along a corresponding direction and towards the corresponding light detector; the directions along which the light is directed may be at oblique or right angles to each other and at oblique angles to axes parallel to the rotational axis. Cette divulgation concerne des systèmes de capteur optique biaxial qui peuvent être utilisés pour évaluer des variations d'épaisseur et/ou de changements d'élévation autour de la circonférence d'un objet, par exemple, d'une tranche de semi-conducteur, lorsque l'objet est pivoté autour d'un axe de rotation. De tels systèmes de capteur peuvent comprendre une paire de sources de lumière et des détecteurs de lumière correspondants. Chaque source de lumière peut être configurée pour diriger de la lumière le long d'une direction correspondante et vers le détecteur de lumière correspondant ; les directions le long desquelles la lumière est dirigée peuvent être à des angles obliques ou droits les unes par rapport aux autres et à des angles obliques par rapport à des axes parallèles à l'axe de rotation.