DEVICE FOR A COATING APPARATUS FOR DEPOSITING FUNCTIONAL MATERIAL

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung für eine Beschichtungsapparatur (1) zur Abscheidung von funktionellem Material, aufweisend eine mit einem flüssigen Elektrolyten (2) füllbare Galvanikwanne (3) und wenigstens eine in der Galvanikwanne (3) angeordnete Gegenelektrode (4), ein zumindest teilweise als Hohlkörper ausgestalteter Substratträger (5) mit einer einen Hohlraum einschließenden Außenhülle, und eine in dem Hohlraum angeordnete Ab- und/oder Ansaugvorrichtung (6) zum Ab- bzw. Ansaugen des Elektrolyten (2), wobei, die Außenhülle diffusionsoffen ausgestaltet und die Außenseite (5B) mit einem Substrat (7) beaufschlagbar ist, der Substratträger (5) in einem betriebsbereiten Zustand zumindest teilweise in die Galvanikwanne (3) hineinragt, der Substratträger (5) als Arbeitselektrode ausgestaltet ist oder eine Arbeitselektrode umfasst, und zwischen der Gegenelektrode (4) und der Arbeitselektrode eine Spannung anlegbar ist, die Ab- und/oder Ansaugvorrichtung (6) und die Galvanikwanne (3) mit einem Rohrsystem (11) gekoppelt sind, wobei das Rohrsystem (11) dazu ausgestaltet ist, zwischen der Ab- und/oder Ansaugvorrichtung (6) im Hohlraum des Substratträgers (5) und der Galvanikwanne (3) einen Elektrolyttransport zu gewährleisten. Auf diese Weise wird eine Vorrichtung zur Metallabscheidung bereitgestellt, die eine effiziente Regeneration des Elektrolyten ermöglicht und den Abscheideprozess beschleunigt sowie qualitativ verbessert. The invention relates to a device for a coating apparatus (1) for depositing functional material, having a galvanic trough (3) which can be filled with a liquid electrolyte (2) and at least one counter-electrode (4) arranged in the galvanic trough (3), a substrate carrier (5) which is designed at least partially as a hollow body and has an outer shell enclosing a cavity, and a suction and/or intake device (6) arranged in the cavity for suctioning and/or taking in the electrolyte (2), wherein the outer shell is designed to be open to diffusion and a substrate (7) can be applied to the outside (5B), the substrate carrier (5) projects at least partially into the galvanic trough (3) in an operation-ready state, the substrate carrier (5) is designed as a working electrode or comprises a working electrode, and a voltage can be applied between the counter-electrode (4) and the working electrode, the suction and/or intake device (6) and the galvanic trough (3) are coupled to a pipe system (11), wherein the pipe system (11) is designed to ens