MEASUREMENT DEVICE, METHOD OF MEASUREMENT, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICES

A measurement device for measuring a substrate, the measurement device comprising: an optical sensor configured to make a measurement of a substrate surface by emitting a light beam; and a fluid supply configured to supply a conditioning fluid traversing the light beam and flowing in a slit between...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BLOKS, Ruud, DONKERBROEK, Arend, DE LANGE, Max
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A measurement device for measuring a substrate, the measurement device comprising: an optical sensor configured to make a measurement of a substrate surface by emitting a light beam; and a fluid supply configured to supply a conditioning fluid traversing the light beam and flowing in a slit between the measurement device and the substrate surface; wherein the optical sensor is configured to perform a first measurement process while the measurement device is moving relative to the substrate at a first speed, and to perform a second measurement process while the measurement device is moving relative to the substrate at a second speed higher than the first speed; and the fluid supply is configured to supply the conditioning fluid at a first flow rate during the first measurement process, and to supply the conditioning fluid at a second flow rate higher than the first flow rate during the second measurement process. Un dispositif de mesure servant à mesurer un substrat, le dispositif de mesure comprenant : un capteur optique conçu pour prendre une mesure d'une surface de substrat en émettant un faisceau lumineux ; et une source d'alimentation en fluide conçue pour fournir un fluide de conditionnement traversant le faisceau lumineux et circulant dans une fente entre le dispositif de mesure et la surface du substrat. Le capteur optique est conçu pour effectuer un premier processus de mesure pendant que le dispositif de mesure se déplace par rapport au substrat à une première vitesse, et pour effectuer un second processus de mesure pendant que le dispositif de mesure se déplace par rapport au substrat à une seconde vitesse supérieure à la première vitesse ; et la source d'alimentation en fluide est conçue pour fournir le fluide de conditionnement à un premier débit pendant le premier processus de mesure, et pour fournir le fluide de conditionnement à un second débit supérieur au premier débit pendant le second processus de mesure.