SUBSTRATE DEPOSITION APPARATUS HAVING FORCE SENSOR AND CONTROL METHOD THEREOF
A substrate deposition apparatus having a force sensor is disclosed. The substrate deposition apparatus having a force sensor according to one aspect of the present invention may comprise: a chamber that forms a deposition space and has an open opening formed on a portion of the top surface thereof;...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; kor |
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Zusammenfassung: | A substrate deposition apparatus having a force sensor is disclosed. The substrate deposition apparatus having a force sensor according to one aspect of the present invention may comprise: a chamber that forms a deposition space and has an open opening formed on a portion of the top surface thereof; an aligner frame located above the opening and supported on the edges of the opening on the top surface of the chamber; a vibration isolation unit disposed between the chamber and the aligner frame to isolate the chamber and the aligner frame from vibration; a substrate fixing means for fixing a substrate introduced into the deposition space; a displacement adjustment unit that is coupled to and supported by the aligner frame, disposed to face the deposition space within the chamber, has the substrate fixing means at the bottom thereof, and moves the substrate fixed to the substrate fixing means in the horizontal and vertical directions and adjusts the horizontality and angle; a mask support frame that is coupled to the aligner frame and extends to the lower side of the substrate fixing means; a mask fixing means configured to be supported on the mask support frame to fix a mask to the lower side of the substrate fixing means; a force sensor disposed between the mask fixing means and the mask support frame to measure a load acting on the mask fixing means; and a control unit that controls the substrate fixing means, the displacement adjustment unit, and the mask fixing means.
Un appareil de dépôt de substrat ayant un capteur de force est divulgué. Selon un aspect de la présente invention, l'appareil de dépôt de substrat ayant un capteur de force peut comprendre : une chambre qui forme un espace de dépôt et possède une ouverture ouverte formée sur une partie de sa surface supérieure ; un cadre d'alignement situé au-dessus de l'ouverture et supporté sur les bords de l'ouverture sur la surface supérieure de la chambre ; une unité d'isolation de vibrations située entre la chambre et le cadre d'alignement permettant d'isoler la chambre et le cadre d'alignement de vibrations ; un moyen de fixation de substrat permettant de fixer un substrat introduit dans l'espace de dépôt ; une unité de réglage de déplacement qui est couplée au cadre d'alignement et supportée par celui-ci, située pour faire face à l'espace de dépôt à l'intérieur de la chambre, qui présente le moyen de fixation de substrat au fond de celle-ci, et qui déplace le substrat fixé au moyen de fixation de s |
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