LEEM BASED SURFACE PROFILE DETERMINATION
A system and method for surface profile determination comprising generating multiple interactions between the surface (360) and a set of particle beams (332, 334) and recombining the set of particle beams after interaction with the surface to determine a surface depth profile. The set of particle be...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | A system and method for surface profile determination comprising generating multiple interactions between the surface (360) and a set of particle beams (332, 334) and recombining the set of particle beams after interaction with the surface to determine a surface depth profile. The set of particle beams may comprise a particle beam split (340, 342) into a reference (334) and sample (332) beam, a particle beam passed through a Zernike phase plate or other phase splitter, or a set of particle beams with different focal lengths. The particle beams may be recombined holographically, by interference, mathematically (such as based on intensity, phase, amplitude, etc.), where the recombination method may vary based on the type of particle beams used.
Un système et un procédé de détermination de profil de surface comprennent la génération de multiples interactions entre la surface (360) et un ensemble de faisceaux de particules (332, 334) et la recombinaison de l'ensemble de faisceaux de particules après interaction avec la surface pour déterminer un profil de profondeur de surface. L'ensemble de faisceaux de particules peut comprendre un diviseur de faisceau de particules (340, 342) divisé en un faisceau de référence (334) et d'échantillon (332), un faisceau de particules passant à travers une plaque de phase de Zernike ou un autre diviseur de phase, ou un ensemble de faisceaux de particules ayant différentes longueurs focales. Les faisceaux de particules peuvent être recombinés de manière holographique, par interférence, mathématiquement (tel que sur la base de l'intensité, de la phase, de l'amplitude, etc.), le procédé de recombinaison pouvant varier sur la base du type de faisceaux de particules utilisés. |
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