SHOWERHEAD FOR SUPPLYING METASTABLE ACTIVATED RADICALS

A showerhead for a substrate processing system includes a first portion including a surface, one end of a side wall extending from a radially outer edge of the surface, and a flange extending radially outwardly from another end of the side wall. A cover plate is brazed to a side of the surface using a braze layer. A plurality of gas channels is defined by at least one of the surface, the braze layer and the cover plate. A first plurality of gas through holes in the cover plate are in fluid communication with the plurality of gas channels. A second plurality of gas through holes extend through the first portion, the braze layer and the cover plate. La présente invention porte sur une pomme de douche destinée à un système de traitement de substrat qui comprend une première partie comprenant une surface, une extrémité d'une paroi latérale s'étendant depuis un bord radialement externe de la surface, et une bride s'étendant radialement vers l'extérieur à partir d'une autre extrémité de la paroi latérale. Une plaque de recouvrement est brasée sur un côté de la surface à l'aide d'une couche de brasage. Une pluralité de canaux de gaz est délimitée par au moins l'une de la surface, de la couche de brasage et de la plaque de recouvrement. Une première pluralité de trous traversants de gaz dans la plaque de recouvrement sont en communication fluidique avec la pluralité de canaux de gaz. Une seconde pluralité de trous traversants de gaz s'étendent à travers la première partie, la couche de brasage et la plaque de recouvrement.