CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE

Provided is a charged particle beam device capable of efficiently transporting a carrier 5 to a sample chamber 20. The charged particle beam device comprises: a sub-stage 22 having an inclination mechanism 223 for tilting independently of a wafer a holder 6 on which a sample piece made from the wafer is mounted; a sample chamber 20 for storing a wafer stage 21 and the sub-stage 22; and a transport mechanism 90 for transporting the holder 6 from the sub-stage 22 to the outside of the sample chamber 20 independently of the wafer. L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées capable de transporter efficacement un support (5) vers une chambre d'échantillon (20). Le dispositif à faisceau de particules chargées comprend : un sous-étage 22 ayant un mécanisme d'inclinaison 223 pour incliner indépendamment d'une tranche un support 6 sur lequel une pièce d'échantillon constituée de la tranche est montée ; une chambre d'échantillon 20 pour stocker un étage de tranche 21 et le sous-étage 22 ; et un mécanisme de transport 90 pour transporter le support 6 du sous-étage 22 vers l'extérieur de la chambre d'échantillon 20 indépendamment de la tranche. キャリア５の試料室２０への搬送を効率よく行うことができる荷電粒子ビーム装置を提供する。荷電粒子ビーム装置は、ウェハから作製された試料片が搭載されるホルダ６を、ウェハと独立して傾斜させる傾斜機構２２３を有するサブステージ２２と、ウェハステージ２１とサブステージ２２とを格納する試料室２０と、サブステージ２２からホルダ６を、ウェハと独立して試料室２０の外に搬送する搬送機構９０と、を備える。