CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND METHOD FOR PREPARING AND OBERVING SAMPLE PIECE

Provided is a charged particle beam device that controls the orientation of a holder 6 capable of holding a plurality of carriers, and that is capable of transporting the holder independently of a wafer stage 21. The charged particle beam device comprises: a wafer stage 21 on which a wafer is placed and moved; a needle which holds a sample piece separated and removed from the wafer, and transports the sample piece to a plurality of carriers attached to the holder; and a sub-stage 22 which holds the holder, and moves independently of the wafer stage 21. L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées qui commande l'orientation d'un socle (6) capable de maintenir une pluralité de supports, et qui est capable de transporter le socle indépendamment d'un étage de tranche (21). Le dispositif à faisceau de particules chargées comprend : un étage de tranche (21) sur lequel une tranche est placée et déplacée ; une aiguille qui maintient une pièce d'échantillon séparée et retirée de la tranche, et transporte la pièce d'échantillon vers une pluralité de supports fixés au socle ; et un sous-étage (22) qui maintient le socle, et se déplace indépendamment de l'étage de tranche (21). 複数のキャリアを保持可能なホルダ６姿勢を制御し、ウェハステージ２１と独立させてホルダを搬送可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。荷電粒子ビーム装置は、ウェハを載置して移動するウェハステージ２１と、ウェハから分離され摘出された試料片を保持して、ホルダに装着された複数のキャリアに搬送するニードルと、ホルダを保持し、ウェハステージ２１と独立して移動するサブステージ２２と、を備える。