METHOD OF FOCUS METROLOGY

The present invention provides a method of focus metrology. The method comprises using an inspection tool to image a sample having a plurality of features formed by a lithography tool; determining the amount of shift of the plurality of features in the image of the sample in comparison to a design layout; and deriving a focus value of the lithography tool based on the amount of shift. La présente invention concerne un procédé de métrologie de mise au point. Le procédé consiste à utiliser un outil d'inspection pour imager un échantillon ayant une pluralité de caractéristiques formées par un outil de lithographie ; à déterminer la quantité de décalage de la pluralité de caractéristiques dans l'image de l'échantillon par comparaison avec une disposition de conception ; et à dériver une valeur de mise au point de l'outil de lithographie sur la base de la quantité de décalage.