FILM THICKNESS MEASURING DEVICE AND FILM THICKNESS MEASURING METHOD

This film thickness measuring device comprises a light emitting unit, an inclined dichroic mirror, an area sensor, and an analyzing unit for deriving a first wavelength centroid on the basis of a first signal and deriving a second wavelength centroid on the basis of a second signal. The analyzing un...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: TAKAHASHI Teruo, OHTSUKA Kenichi, TSUCHIYA Kunihiko, MORISHIMA Kota
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:This film thickness measuring device comprises a light emitting unit, an inclined dichroic mirror, an area sensor, and an analyzing unit for deriving a first wavelength centroid on the basis of a first signal and deriving a second wavelength centroid on the basis of a second signal. The analyzing unit: derives at least one first film thickness candidate from relationship information between a film thickness of a sample and a wavelength centroid at a first wavelength, and the first wavelength centroid; derives at least one second film thickness candidate from relationship information between the film thickness of the sample and the wavelength centroid at a second wavelength, and the second wavelength centroid; and derives the film thickness of the sample on the basis of the first film thickness candidate and the second film thickness candidate. Ce dispositif de mesure d'épaisseur de film comprend une unité électroluminescente, un miroir dichroïque incliné, un capteur surfacique et une unité d'analyse pour dériver un premier centroïde de longueur d'onde sur la base d'un premier signal et dériver un second centroïde de longueur d'onde sur la base d'un second signal. L'unité d'analyse : dérive au moins un premier candidat d'épaisseur de film à partir d'informations de relation entre une épaisseur de film d'un échantillon et un centroïde de longueur d'onde à une première longueur d'onde, et le premier centroïde de longueur d'onde ; dérive au moins un second candidat d'épaisseur de film à partir d'informations de relation entre l'épaisseur de film de l'échantillon et le centroïde de longueur d'onde à une seconde longueur d'onde, et le second centroïde de longueur d'onde ; et dérive l'épaisseur de film de l'échantillon sur la base du premier candidat d'épaisseur de film et du second candidat d'épaisseur de film. 膜厚測定装置は、光照射部と、傾斜ダイクロイックミラーと、エリアセンサと、第1の信号に基づいて第1の波長重心を導出すると共に、第2の信号に基づいて第2の波長重心を導出する解析部と、を備える。解析部は、第1の波長におけるサンプルの膜厚と波長重心との関係情報、及び第1の波長重心から、少なくとも1つの第1の膜厚候補を導出し、第2の波長におけるサンプルの膜厚と波長重心との関係情報、及び第2の波長重心から、少なくとも1つの第2の膜厚候補を導出し、前記第1の膜厚候補及び前記第2の膜厚候補に基づいて、サンプル膜厚を導出する。