SAMPLE PROCESSING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE

The present invention recognizes a boundary of a processing region of a sample even when an acquired observation image is low quality, and processes the sample after adjusting an emission position of a charged particle beam so that a boundary portion of the charged particle beam contacts the identified boundary of the processing region. A sample processing method includes: acquiring charged particle beam information including information about the shape and the size of a charged particle beam having beam conditions to be used in the processing of a sample (S1); acquiring an observation image of the sample by emitting the charged particle beam, having the beam conditions to be used in the processing of the sample, onto the sample that includes a processing region to be processed by the charged particle beam (S2); identifying a boundary of the processing region on the basis of brightness information of the acquired observation image (S3); and adjusting the emission position of the charged particle beam so that a boundary portion of the charged particle beam calculated on the basis of the charged particle beam information contacts the identified boundary of the processing region, and processing the sample (S5). La présente invention reconnaît une limite d'une région de traitement d'un échantillon même lorsqu'une image d'observation acquise est de faible qualité, et traite l'échantillon après le réglage d'une position d'émission d'un faisceau de particules chargées de telle sorte qu'une partie de limite du faisceau de particules chargées entre en contact avec la limite identifiée de la région de traitement. Un procédé de traitement d'échantillon consiste : à acquérir des informations de faisceau de particules chargées comprenant des informations concernant la forme et la taille d'un faisceau de particules chargées présentant des conditions de faisceau à utiliser dans le traitement d'un échantillon (S1); à acquérir une image d'observation de l'échantillon par l'émission du faisceau de particules chargées, présentant les conditions de faisceau à utiliser dans le traitement de l'échantillon, sur l'échantillon qui comprend une région de traitement à traiter par le faisceau de particules chargées (S2); à identifier une limite de la région de traitement en fonction d'informations de luminosité de l'image d'observation acquise (S3); et à régler la position d'émission du faisceau de particules chargées de telle sorte qu'une partie de limite du faisceau de particules c